离子渗氮由于渗氮速度快、生产周期短、变形小、局部渗氮方便，可进行低温渗氮，节约电能、降低渗氮成本，现已被广泛应用于汽车、机械、精密仪器、挤压成型机、模具等许多领域，而且其应用范围仍在日益扩大。

离子渗氮需要在真空设备中加入渗氮气源以达到工件表面渗氮的目的，常加入的气氛有氨气、氮气、氢气、甲烷和氩气。

1、氨气。液氨是我国生产上应用最广泛的渗氮气源，通常把液氨汽化成氨气作为渗氮源。氨气价格低廉、来源广泛，但有很多缺点，如渗氮层脆性较大（和热分解氨比）。氨在炉内的分解率随进气量，温度和起辉面积而变，进气口处分解率最低，抽气口处氨分解率最高，因此炉内各处的气体的成分是不同的，对辉光放电特性产生影响，造成零件表面电流密度不均匀。从真空泵中排出的废气中含有相当数量未分解的氨气，造成环境污染。

2、氮气和氢气。离子渗氮时，氢作为稀释气体加入，可调节渗氮气氛的氮势，很容易控制渗氮层的组织。氢气起还原零件表面氧化物的作用，以获得“活性”的表面，降低设备对漏气率的要求。氮气和氢气对环境没有污染，在离子渗氮负压下使用氢气也是安全的。

3、甲烷。气氛中加入甲烷，即为离子氮碳共渗，又称离子软氮化。离子软氮化温度较高，渗速较快，可以有效的缩短生产周期。氮中含有碳的气氛，还可降低工件表面的氮化脆性。

4、氩气。氩气可作为氮的稀释气体，氩气的加入有使辉光收缩的作用，容易使工件的小孔、沟槽渗氮，提高工件的离子渗氮的整体氮化效果。

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